印度芯片制造计划面临挑战：塔塔电子将以 90 纳米工艺起步

📝 摘要

印度塔塔电子计划在古吉拉特邦多莱拉的工厂建设该国首座大规模芯片晶圆厂，核心制程锁定 90 纳米，较此前设定的 28 纳米起点更为保守。同时，印度政府批准新一轮「Semicon 2.0」计划，拟提供超 12750 亿卢比资金支持，围绕芯片设计、晶圆制造等六大战略支柱，加速本土芯片生产、降低进口依赖，力争跻身全球半导体产业重镇。

✍️ 编辑摘要

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📌 关键信息

印度塔塔电子计划在古吉拉特邦多莱拉的工厂建设该国首座大规模芯片晶圆厂，核心制程锁定 90 纳米，较此前设定的 28 纳米起点更为保守
同时，印度政府批准新一轮「Semicon 2.0」计划，拟提供超 12750 亿卢比资金支持，围绕芯片设计、晶圆制造等六大战略支柱，加速本土芯片生产、降低进口依赖，力争跻身全球半导体产业重镇